60年代时，半导体公司通常自己设计工装和工具，比如英特尔开始是买16毫米摄像机镜头拆了用。
只有GCA，K&S和Kasper等很少几家公司有做过一点点相关设备。
60年代末，日本的尼康和佳能开始进入这个领域，毕竟当时的光刻不比照相机复杂。
70年代初，光刻机技术更多集中在如何保证十个甚至更多个掩膜版精准地套刻在一起。
Kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年，Cobilt公司做出了自动生产线，但接触式机台后来被接近式机台所淘汰，因为掩膜和光刻胶多次碰到一起太容易污染了。
1973年，拿到美国军方投资的PerkinElmer公司推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。
1978年，GCA推出真正现代意义的自动化步进式光刻机(Stepper)，分辨率比投影式高5倍达到1微米。
这个怪怪的名字来自于照相术语Stepa，这台机器通俗点说把透过掩膜的大约一平方厘米的一束光照在晶圆上，曝光完一块挪个位置再刻下一块。
由于刚开始Stepper生产效率相对不高，PerkinElmer在后面很长一段时间仍然占具主要的地位。
80年代一开始，GCA的Stepper还稍微领先，但很快尼康发售了自己首台商用StepperNSR-1010G，拥有更先进的光学系统极大提高了产能。
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